أهداف التيتانيوم السيليكون الرش

وصف أهداف التيتانيوم السيليكون Sputter

طلاء الرش المغنطروني هو نوع جديد من طريقة الطلاء بالبخار الفيزيائي ، والذي يستخدم نظام مدفع إلكتروني لإصدار وتركيز الإلكترونات على المادة المراد تغليفها ، بحيث تتبع الذرات المتناثرة مبدأ تحويل الزخم ، بحيث تكون المادة ذات ميكانيكية أعلى ملكيات. تسمى المادة المراد طلاءها هدف الرش ، والذي يشمل بشكل أساسي المعادن والسبائك ومركبات السيراميك. يمكن تقسيم الهدف المستوي والهدف القوسي والهدف الأسطواني والهدف الأنبوبي. غالبًا ما يتم تصنيعها عن طريق عملية تعدين المساحيق ولها خصائص فيزيائية وكيميائية ممتازة. أهداف رشاش التيتانيوم السيليكون هي مزيج مثالي من طبقات مادة النيتريد الصلبة ، ويضمن السيليكون مقاومة عالية للأكسدة ويوفر التيتانيوم صلابة استثنائية ومقاومة التآكل. تُستخدم أهداف التيتانيوم السليكونية على نطاق واسع في ترسيب الأغشية الرقيقة ، وصناعة الزجاج ، والطلاء بالفراغ ، وصناعة أشباه الموصلات ، وصناعة الإلكترونيات ، وتكنولوجيا الاخرق المغنطروني وصناعة الطلاء الزخرفي.

مواصفات أهداف التيتانيوم السيليكون الرش:

أهداف رشاش التيتانيوم السيليكون:

الوسم : أهداف تطاير التيتانيوم السيليكون ، الموردين ، الشركات المصنعة ، المصنع ، حسب الطلب ، الجملة ، السعر ، الاقتباس ، للبيع